FilmTek™Solar是一款精确且经济的薄膜厚度测量系统，专为纹理基材设计。与竞争的椭偏仪设计不同，FilmTek™Solar不需要特殊的台阶倾斜或样品对准。通过将小的测量光点尺寸与大的收集角度相结合，可以获得无粗糙和纹理基底的极佳信噪比，无需样品对准。FilmTek™软件自动模拟纹理单晶硅基板的多次反射，以提供准确的胶片测量。FilmTek™Solar特别适用于测量织构化硅衬底上的抗反射涂层（如沉积在单晶硅和多晶硅衬底上的氮化硅薄膜）。
FilmTek™软件包含完全用户可定制的映射功能，可快速生成任何测量参数的2D和3D数据图。除用户定义的模式外，标准地图模式还包括极坐标，XY，rθ或线性。
FilmTek™积分球测量放置在球体10.3 mm样品端口上的平整表面的总体积反射率。照明是由一个内部卤钨灯提供的，该钨卤素灯挡住了样品上的入射光从球壁反射回来。球体的高朗伯内部提供了一个统一的180°照明场。手动开关可以测量漫反射或镜面反射和漫反射。FilmTek™积分球是用于测量光伏应用的全集成反射率和膜厚度的理想解决方案。
对于薄膜光伏应用，我们推荐使用FilmTek™2000和FilmTek™3000系统来表征带隙，层厚和粗糙的界面层，这对于最大限度提高光伏器件效率至关重要。
FilmTek™Solar将SCI的广义材料模型与先进的全局优化算法相结合，可同时测定：
FilmTek™Solar的拥有成本只是可比仪器的一小部分。
FilmTek™Solar软件的设计使得在薄膜光学设计或测量技术方面需要最少的经验。
FilmTek™太阳能/集成球体包括：
| FilmTek™太阳能技术规格 | |||
|---|---|---|---|
| 薄膜厚度范围： | 3nm的-150μm的 | ||
| 薄膜厚度准确度： | ± 2 埃为NIST可追踪标准氧化物1000 埃到1微米 | ||
| 光谱范围： | 波长为240nm-950nm | ||
| 测量点大小： | 1毫米 | ||
| 样本量： | 2mm至156mm标准 | ||
| 光谱分辨率： | 为0.3nm | ||
| 光源： | 受控氘卤素灯（寿命2,000小时） | ||
| 检测器类型： | 2048像素索尼线性CCD阵列 | ||
| 600纳米（1 秒）的反射静态重复性： | 0.01％ | ||
| 测量时间： | 每个部位<1秒（如氧化膜） | ||
| 数据采集时间： | 0.2秒 | ||
| 电脑： | 带有Windows™7操作系统的多核处理器 | ||
| FilmTek™积分球技术规格 | |||
|---|---|---|---|
| 薄膜厚度范围： | 为10nm-50um | ||
| 薄膜厚度准确度： | ± 2 埃为NIST可追踪标准氧化物1000 Å到1nm | ||
| 光谱范围： | 在380nm-950nm | ||
| 测量点大小： | 10.3毫米 | ||
| 样本量： | 15mm至300mm标准 | ||
| 光谱分辨率： | 为0.3nm | ||
| 光源： | 规定的卤钨灯（900小时寿命） | ||
| 检测器类型： | 2048像素索尼线性CCD阵列 | ||
| 600纳米（1 秒）的反射静态重复性： | 0.01％ | ||
| 测量时间： | 每个部位<1秒（如氧化膜） | ||
| 数据采集时间： | 0.2秒 | ||
| 电脑： | 带有Windows™7操作系统的多核处理器 | ||
| 性能规格 | |||
|---|---|---|---|
| 电影（S） | 厚度 | 测量参数 | 精度（1σ） |
| 氧化物/硅 | 100-10,000Å | t | 0.5Å |
| 氮化物/硅 | 100-10,000Å | t | 0.5Å |
