微区光谱透反射仪

  • 产品型号:FilmTek™ 3000M
  • 制造原厂:Scientific Computing International

微点尺寸反射和透射分光光度法

反射和透射分光光度法测量薄膜厚度

FilmTek™3000M组合反射透射计量系统的开发旨在高效且准确地测量沉积在透明基底上的图案化薄膜。FilmTek™3000M可以使用小到2μm的光斑,并且可以为平板显示器应用配备大型定制平台。

利用高功率物镜进行亚15μm点测量的常规光学测量系统容易出现显着的信号衰减和光学伪影,限制了其用于图案化样品,非均匀薄膜和厚膜。FilmTek™3000M的专利光学设计即使在小光斑测量中也能保持高信号保真度,允许具有低功率物镜的小于10μm的光斑。避免使用高功率物镜对于限制收集光的角度光谱并使光谱反射和透射的相干性最大化至关重要。

可以扩展FilmTek™3000M功能,以执行图案化样品的基于成像的全自动关键尺寸(CD)测量。这个选项允许同时进行CD和薄膜厚度测量。

FilmTek™3000M是一个完全集成的系统方案,具有先进的材料建模软件,可以使最严格的测量任务更加可靠和直观。

主要特征:

  • 光谱反射
  • 光谱传输
  • 5nm至350μm的薄膜厚度范围
  • 2μm光斑尺寸(5×10μm标准)
  • 带自动对焦的自动舞台
  • 成像测量位置的相机
  • 模式识别

测量功能:

FilmTek™3000M结合了SCI的广义材料模型和先进的全局优化算法,可同时测定:

  • 多层厚度
  • 折射率[n(λ)]
  • 消光(吸收)系数[k(λ)]
  • 能带隙[E g ]
  • 临界尺寸(CD)测量

可选功能:

  • 自动化平板/晶圆处理
  • 平板总厚度变化(TTV)测量
  • SECS / GEM

 



  • 技术规格
    薄膜厚度范围:5nm至350μm(标准为5nm至150μm)
    薄膜厚度准确度:NIST可溯源标准氧化物1000Å至1μm为±1.5Å
    CD精度(1σ):<0.2%
    光谱范围:380nm至1700nm(380nm至1000nm是标准)
    测量点大小:2μm(5×10μm标准,10倍物镜)
    样本量:2mm至600mm(标准为150mm)
    光谱分辨率:0.3-2nm
    光源:稳定的卤素灯(寿命2,000小时)
    检测器类型:2048像素索尼线性CCD阵列/ 512像素冷却滨松InGaAs CCD阵列(NIR)
    电脑:带有Windows™7操作系统的多核处理器
    测量时间:每个部位<1秒(例如氧化膜)

     

    性能规格
    电影(S)厚度测量参数精度(1σ)
    氧化物/硅50-1000nmt0.025nm
    1-150um
    t0.005%