全新的OAI 800E型前后侧半自动掩模光刻系统提供了自动化生产掩模光刻机中常见的高级功能和规格。
正面/背面掩膜对准系统
掩膜旋转：不需要（相机补偿前/后）
掩膜尺寸：最大9“x9”
掩膜装载：真空和机械夹钳
掩膜/衬底分离：手动，用户可定义，无限可变
掩膜/基材压力：用户可定义
夹盘运动控制：X，Y，Z和Theta（差分微米）
曝光间隙：0-3000μm
间隙调整：1μm
机械分辨率：1.5μm
X，Y行程：±10mm
Theta行程：±4°
调平：楔形补偿系统
覆盖精度：前后<2μm（3s） - 上侧至0.5μm
衬底尺寸：200平方毫米
曝光模式：接近式，软，硬和真空接触
曝光分辨率：软接触 - 2μm，硬接触亚微米
曝光时间：1-3,200，以0.1秒为增量
