全新的OAI 800E型前后侧半自动掩模光刻系统提供了自动化生产掩模光刻机中常见的高级功能和规格。随着这种新型掩膜光刻机的发展，OAI采用新型掩膜光刻机来满足日益增长的半导体和MEMS市场的挑战，这种掩膜光刻机专为研发和小批量生产而设计。
基于OAI经过验证的模块化平台，Model 800E是一款增强型高性能高分辨率光刻系统，以极具吸引力的价格提供高水平的性能。对准仪系统具有OAI的先进光束光学系统，可提供出色的均匀性。使用OAI的精密光刻模块进行升级，800E型是实验室或小批量生产中的高度通用的工具。 800E型采用Windows 7 PC控制平台，具有广泛的Recipe存储量。该系统还带有操纵杆控制的对准和光学平台，并可配置非接触式3点楔形效果校正和自动对准功能。这些组合功能通常在自动化生产掩模对准系统中才能找到，但现在可以以更实惠的价格购买800E型。
800E型号是独一无二的，因为它包含了OAI 6000型生产光罩对准工具中的高级功能。通过使用经过验证的OAI模块化光罩对准器平台，我们能够采用更先进的工具技术以更实惠的价格生产出强大的系统。
标准的正面光罩对准器功能包括：双1MP分辨率的GIGE CCD相机，电动操纵杆，真空，硬软接近曝光模式和自动楔效应补偿。标准背面功能包括所有正面功能以及两个附加相机，数码变焦和机动背面光学聚焦。
增强的性能：
双1 MP分辨率GigE CCD相机，带有连续变焦光学元件，可提供更好的对准精度
目标距离44-200mm
光学放大倍数70x - 400x
大型光学元件Y平行对准
增强的数字图像捕捉和混合图像覆盖，从而获得更好的前后覆盖精度
计算机控制的照明更加可重复的对齐
利用Cognex最新的模式识别技术进行自动对齐
包括CD测量功能
背面对准180x光学背面放大，数码变焦和电动自动对焦
自动楔效应补偿包括3点楔效平衡和自动间隙设置
对准工具和光学元件的操纵杆控制
其他能力：
IR背面添加4个相机背面对准系统
可以添加纳米压印光刻（NIL）模块和入门工具包
接触式液体光聚合物CLPP微流控工艺模块
其他特性：
易于从上表面对准升级到上下表面对准
易于使用OAI的精密光刻模块来增强您的系统
易于操作和维护
用户的人体工程学设计
正面/背面掩膜对准系统
掩膜旋转：不需要（相机补偿前/后）
掩膜尺寸：最大9“x9”
掩膜装载：真空和机械夹钳
掩膜/衬底分离：手动，用户可定义，无限可变
掩膜/基材压力：用户可定义
夹盘运动控制：X，Y，Z和Theta（差分微米）
曝光间隙：0-3000μm
间隙调整：1μm
机械分辨率：1.5μm
X，Y行程：±10mm
Theta行程：±4°
调平：楔形补偿系统
覆盖精度：前后<2μm（3s） - 上侧至0.5μm
衬底尺寸：200平方毫米
曝光模式：接近式，软，硬和真空接触
曝光分辨率：软接触 - 2μm，硬接触亚微米
曝光时间：1-3,200，以0.1秒为增量
