OAI 200型掩模光刻机是一款经济高效的高性能掩模光刻系统,采用业界认可的组件,使OAI成为光刻资本设备行业的领导者。 200型是一款台式掩模光刻机,需要最小的洁净室空间。它为研发提供了一种经济替代方案,或者应用于有限的规模试产。利用创新的空气轴承/真空吸盘校平系统,可快速平稳地校平基板,以便在接触曝光期间实现平行光掩膜对齐和晶片均匀接触。该系统具有1微米的分辨率和对准精度。
对准模块具有掩模插入套件和快速更换的晶圆卡盘,便于使用各种基材和掩模,无需特殊工具进行重新配置。对齐模块包含X,Y和Z轴的千分尺。
200型掩模对准器具有可靠的OAI紫外线光源,可在近紫外或深紫外线下使用功率范围为200至2000瓦的灯提供准直紫外光。双传感器光学反馈回路与恒定强度控制器相连,以提供曝光强度控制在理想强度的±2%范围内。可以快速轻松地对UV波长进行更改。该掩模Aligner是任何入门级掩模对准和UV曝光应用的灵活经济的解决方案。
仅需要很小的洁净室空间
对衬底的损伤降低到最低
对准精度1um
广泛适用于多种衬底与光罩
背面对准支持IR穿透
晶圆光刻精度支持3-5um
高对准精度,高均匀性UV光源
迅速切换UV光源波长
曝光均匀性在2%以内
可用于纳米列印工具
可选配微流体研究模组
衬底平台 | X,Y行程 | ±10mm |
Z行程 | 1500 microns | |
千分尺 | .001"; .0001" | |
刻度 | 或.01mm; 0.001mm | |
旋转 | ±3.5˚ | |
掩膜 | 尺寸 | 高达9“x 9” |
光源 | 光束尺寸 | 高达8“平方 |
灯泡功率 | 200,350,500,1,000,和 | |
2,000 Watt NUV | ||
500,1000和2,000 Watt DUV | ||
快门定时器 | 计时器 | 在0.1秒增量时 0.1至99.0 sec |
或在1秒增量时 1至999 sec | ||
设备 | 电力 | 110或220 vac |
(根据电源要求和国家地区来设定其他电压值) | ||
真空 | 20 - 28“Hg. | |
空气和N2 排气 | 60 PSI上的CDA和40 PSI上的N2 .35“至.5” Water | |
外形尺寸 | 高度 | 37“(940mm) |
宽度 | 31“(788mm” | |
深度 | 25“(635mm) | |
装运重量 | 250 lbs. |