手动光刻机

  • 产品型号:Model 200
  • 制造原厂:OAI INSTRUMENTS

OAI 200型掩模光刻机是一款经济高效的高性能掩模光刻系统,采用业界认可的组件,使OAI成为光刻资本设备行业的领导者。 200型是一款台式掩模光刻机,需要最小的洁净室空间。它为研发提供了一种经济替代方案,或者应用于有限的规模试产。利用创新的空气轴承/真空吸盘校平系统,可快速平稳地校平基板,以便在接触曝光期间实现平行光掩膜对齐和晶片均匀接触。该系统具有1微米的分辨率和对准精度。

对准模块具有掩模插入套件和快速更换的晶圆卡盘,便于使用各种基材和掩模,无需特殊工具进行重新配置。对齐模块包含X,Y和Z轴的千分尺。

200型掩模对准器具有可靠的OAI紫外线光源,可在近紫外或深紫外线下使用功率范围为200至2000瓦的灯提供准直紫外光。双传感器光学反馈回路与恒定强度控制器相连,以提供曝光强度控制在理想强度的±2%范围内。可以快速轻松地对UV波长进行更改。该掩模Aligner是任何入门级掩模对准和UV曝光应用的灵活经济的解决方案。

 

  • 仅需要很小的洁净室空间

  • 对衬底的损伤降低到最低

  • 对准精度1um

  • 广泛适用于多种衬底与光罩

  • 背面对准支持IR穿透

  • 晶圆光刻精度支持3-5um

  • 高对准精度,高均匀性UV光源

  • 迅速切换UV光源波长

  • 曝光均匀性在2%以内

  • 可用于纳米列印工具

  • 可选配微流体研究模组  


衬底平台

XY行程

±10mm


Z行程

1500 microns


千分尺

.001";   .0001"


刻度

.01mm;  0.001mm


旋转

±3.5˚

掩膜

尺寸

高达9x 9

光源

光束尺寸

高达8平方


灯泡功率

2003505001,000,和



2,000 Watt NUV



500,10002,000 Watt DUV

快门定时器

计时器

0.1秒增量时 0.199.0 sec



或在1秒增量时 1999 sec

设备

电力

110220 vac



(根据电源要求和国家地区来设定其他电压值)


真空

20 - 28Hg.


空气和N2

排气

60 PSI上的CDA40   PSI上的N2

.35.5 Water

外形尺寸

高度

37940mm


宽度

31788mm


深度

25635mm


装运重量

250 lbs.