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美国OAI公司的800E型半自动掩模光刻系统是一款增强型高性能高分辨率光刻系统，具有OAI的先进光束光学系统，可提供出色的均匀性。使用OAI的精密光刻模块进行升级，800E型是实验室或小批量生产中的高度通用的工具。 配备双CCD相机，带有连续变焦光学元件，可提供更好的对准精度,可进行自动对齐,背面对准180x光学背面放大，数码变焦和电动自动对焦
