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美国OAI公司的200型掩模光刻机是一款经济实惠的掩模光刻系统，采用业界认可的组件，采用桌面型设计, 快速平稳地校平基板，以便在接触曝光期间实现平行光掩膜对齐和晶片均匀接触。具有可靠的OAI紫外线光源，可在近紫外或深紫外线下使用功率范围为200至2000瓦的灯提供准直紫外光。是任何入门级掩模对准和UV曝光应用的灵活经济的解决方案。
