FilmTek TM CD光学关键尺寸系统是SCI针对1x nm设计节点及更高级别的全自动化，高通量CD测量和高级薄膜分析的领先解决方案。该系统可同时为已知和完全未知的结构提供实时多层堆栈特性和CD测量。
| 技术规格 | |
|---|---|
| 薄膜厚度范围： | 0到150μm |
| 薄膜厚度准确度： | NIST可追踪标准氧化物100Å到1μm的±1.0Å |
| 光谱范围： | 190nm至1000nm（标准为220nm至1000nm） |
| 测量点大小： | 50微米 |
| 光谱分辨率： | 为0.3nm |
| 光源： | 受控氘卤素灯（寿命2,000小时） |
| 检测器类型： | 2048像素索尼线性CCD阵列 |
| 电脑： | 带有Windows™7操作系统的多核处理器 |
| 测量时间： | 〜2秒（例如氧化膜） |
