高级微区光谱反射仪

  • 产品型号:FilmTek 2000M
  • 制造原厂:Scientific Computing International
  • 用于薄膜厚度测量的微点光谱反射测量法DUV-NIR 光谱反射仪


FilmTek™2000测试系统专为快速,可靠,准确地表征几乎所有未图案化的薄膜而设计。FilmTek™2000是一款完全集成的系统,结合了DUV-NIR光纤分光光度计,自动测试台和先进的材料模型软件,使得即使是最严格的测量任务也能既可靠又直观。
FilmTek™软件包含完全用户自定义的晶圆多点测试功能,可快速生成任何测量参数的2D和3D数据图。除用户定义的模式外,标准模式还包括极坐标,X-Y,rθ或线性。
FilmTek™2000将SCI的广义材料模型与先进的全局优化算法结合在一起,可在每个测试点于1秒内同时测定多个薄膜参数。

测试能力
同时测定:
  • 多层膜厚
  • 折射率[n(λ)]
  • 消光(吸收)系数[k(λ)]
  • 能带隙[Eg]
  • 组成(例如,SiGex中的%Ge,GaxIn1-xAs中的%铝在Al x Ga 1-x As等中)
  • 表面粗糙度
  • 成分,空隙率
  • 结晶度/非晶化度(例如,多晶硅或GeSbTe薄膜的结晶度)
  • 薄膜梯度

低成本

FilmTek™2000的拥有成本仅为可比的自动化台式计量系统的一小部分。
直观的,完全自动化的系统
与DUV-NIR光纤分光光度计,自动测试台,计算机和高级材料模型软件完全集成的系统。 FilmTek™2000软件可自动进行测量校准,数据采集和分析,因此不需要操作者具备薄膜光学设计或测量技术的经验。
技术规格:
膜厚范围: 5nm-150um
膜厚精度:±1.5Å(基于NIST追溯氧化物薄膜,100nm到1um厚度)
波长范围:190nm-1700nm(标准配置240nm-1000nm)
测试点尺寸:2mm-5mm(标准配置5mm)
样品尺寸:2mm-300mm (标准配置150mm测试台)
光谱分辨率:0.3-2nm
光源:氘卤素灯(寿命2,000小时)
探测器类型: 2048像素CCD阵列/512像素 InGaAs阵列(NIR)
测试时间:小于1s/点(氧化物薄膜典型值)
数据获取时间:0.2s

技术规格
薄膜厚度范围:5nm至350μm(标准为5nm至150μm)
薄膜厚度准确度:NIST可溯源标准氧化物1000Å至1μm为±1.5Å
CD精度(1σ):<0.2%
光谱范围:380nm至1700nm(380nm至1000nm是标准)
测量点大小:2μm(5×10μm标准,10倍物镜)
样本量:2mm至300mm(标准为150mm)
光谱分辨率:0.3-2nm
光源:稳定的卤素灯(寿命2,000小时)
检测器类型:2048像素索尼线性CCD阵列/ 512像素冷却滨松InGaAs CCD阵列(NIR)
电脑:带有Windows™7操作系统的多核处理器
测量时间:每个部位<1秒(例如氧化膜)