OAI 200型掩模光刻机是一款经济高效的高性能掩模光刻系统，采用业界认可的元件，使OAI成为光刻资本设备行业的领导者。
衬底平台 | X，Y行程 | ±10mm |
Z行程 | 1500 microns | |
千分尺 | .001"; .0001" | |
刻度 | 或.01mm; 0.001mm | |
旋转 | ±3.5˚ | |
掩膜 | 尺寸 | 高达9“x 9” |
光源 | 光束尺寸 | 高达8“平方 |
灯泡功率 | 200，350，500，1,000，和 | |
2,000 Watt NUV | ||
500,1000和2,000 Watt DUV | ||
快门定时器 | 计时器 | 在0.1秒增量时 0.1至99.0 sec |
或在1秒增量时 1至999 sec | ||
设备 | 电力 | 110或220 vac |
（根据电源要求和国家地区来设定其他电压值) | ||
真空 | 20 - 28“Hg. | |
空气和N2 排气 | 60 PSI上的CDA和40 PSI上的N2 .35“至.5” Water | |
外形尺寸 | 高度 | 37“（940mm） |
宽度 | 31“（788mm” | |
深度 | 25“（635mm） | |
装运重量 | 250 lbs. |
