FilmTek™3000M組合反射透射計量系統的開發旨在高效，準確地測量沉積在透明基底上的圖案化薄膜。 FilmTek™3000M可以使用小到2μm的光斑，並且可以為平板顯示器應用配備大型定制平臺。
利用高功率物鏡進行亞15μm點測量的常規光學測量系統容易出現明顯的信號衰減和光學偽影，限制了其用於圖案化樣品，非均勻薄膜和厚膜。 FilmTek™3000M的專利光學設計即使在小光斑測量中也能保持高信號保真度，允許小於10μm的光斑與低功率物鏡。避免使用高功率物鏡對於限制所收集的光的角度光譜並使光譜反射和透射的相干性最大化是至關重要的。
薄膜厚度範圍：5nm至350μm（5nm至150μm是標準）
薄膜厚度精度：NIST可溯源標準氧化物的±1.5Å1000Å至1μm
CD精度（1σ）：<0.2％
光譜範圍：380nm至1700nm（380nm至1000nm是標準）
測量光斑尺寸：2μm（5×10μm標準，10倍物鏡）
樣品尺寸：2mm至600mm（150mm為標準）
光譜解析度：0.3-2nm
光源：穩定的鹵素燈（壽命2,000小時）
檢測器類型：2048圖元索尼線性CCD陣列/ 512圖元冷卻濱松InGaAs CCD陣列（NIR）
電腦：帶有Windows™7作業系統的多核處理器
測量時間：每個場地<1秒（例如氧化膜）
