FilmTek™3000M组合反射透射计量系统的开发旨在高效且准确地测量沉积在透明基底上的图案化薄膜。FilmTek™3000M可以使用小到2μm的光斑，并且可以为平板显示器应用配备大型定制平台。
利用高功率物镜进行亚15μm点测量的常规光学测量系统容易出现显着的信号衰减和光学伪影，限制了其用于图案化样品，非均匀薄膜和厚膜。FilmTek™3000M的光学设计即使在小光斑测量中也能保持高信号保真度，允许具有低功率物镜的小于10μm的光斑。避免使用高功率物镜对于限制收集光的角度光谱并使光谱反射和透射的相干性最大化至关重要。
可以扩展FilmTek™3000M功能，以执行图案化样品的基于成像的全自动关键尺寸（CD）测量。这个选项允许同时进行CD和薄膜厚度测量。
FilmTek™3000M是一个完全集成的系统方案，具有先进的材料建模软件，可以使最严格的测量任务更加可靠和直观。
FilmTek™3000M结合了SCI的广义材料模型和先进的全局优化算法，可同时测定：
| 技术规格 | |
|---|---|
| 薄膜厚度范围： | 5nm至350μm（标准为5nm至150μm） |
| 薄膜厚度准确度： | NIST可溯源标准氧化物1000Å至1μm为±1.5Å |
| CD精度（1σ）： | <0.2％ |
| 光谱范围： | 380nm至1700nm（380nm至1000nm是标准） |
| 测量点大小： | 2μm（5×10μm标准，10倍物镜） |
| 样本量： | 2mm至600mm（标准为150mm） |
| 光谱分辨率： | 0.3-2nm |
| 光源： | 稳定的卤素灯（寿命2,000小时） |
| 检测器类型： | 2048像素索尼线性CCD阵列/ 512像素冷却滨松InGaAs CCD阵列（NIR） |
| 电脑： | 带有Windows™7操作系统的多核处理器 |
| 测量时间： | 每个部位<1秒（例如氧化膜） |
