FilmTek™1000系列是用于常规测量薄膜厚度和折射率的精确且经济实惠的解决方案。它将光纤分光光度计与直观的高性能材料建模软件相结合,使日常测量任务可靠简单。
FilmTek™1000M配置具有小的光斑尺寸,并配备手动或可选自动XY工作台,以适应75-300mm晶圆尺寸。FilmTek™1500可测量正常入射时的透射率和反射率,是透明基材的理想选择。
FilmTek™软件包含完全用户可定制的映射功能,可快速生成任何测量参数的2D和3D数据图。除用户定义的模式外,标准地图模式还包括极坐标,XY,rθ或线性。
FilmTek™1000/1500结合SCI的广义材料模型和先进的全局优化算法,可同时测定:
FilmTek™1000/1500的拥有成本只是可比仪器的一小部分。
FilmTek™1000软件的设计使得在薄膜光学设计或测量技术方面需要最少的经验。
几乎所有厚度从100埃到150微米的半透明膜都可以高精度测量。典型应用包括:
FilmTek™1000/1500包括:
FilmTek™1000 / 1000M / 1500技术规格 | |
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薄膜厚度范围: | 10nm-350μm(10nm-150μm标准) |
薄膜厚度准确度: | NIST可溯源标准氧化物1000Å至1μm±2Å |
光谱范围: | 在380nm-950NM |
FilmTek™1000/1500测量点尺寸: | 2mm至5mm(5mm标准) |
FilmTek™1000M测量光斑尺寸: | 60μm(4x物镜)或24μm(10x物镜) |
样本量: | 2mm至300mm |
光谱分辨率: | 为0.3nm |
FilmTek™1000/1500光源: | 稳定的卤素灯(寿命为10,000小时) |
FilmTek™1000M光源: | 稳定的卤素灯(使用寿命为2000小时) |
检测器类型: | 2048像素索尼线性CCD阵列 |
电脑: | 带有Windows™7操作系统的多核处理器 |
测量时间: | 每个部位<1秒(例如氧化膜) |
性能规格 | |||
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薄膜(S) | 厚度 | 测量参数 | 精度(1σ) |
氧化物/硅 | 100-1000nm | t | 0.05纳米 |
1-150微米 | t | 0.005%Å |